《CVD-1100設(shè)備工作原理》由會(huì)員分享,可在線閱讀,更多相關(guān)《CVD-1100設(shè)備工作原理(10頁(yè)珍藏版)》請(qǐng)?jiān)谘b配圖網(wǎng)上搜索。
1、,#,單擊此處編輯母版標(biāo)題樣式,單擊此處編輯母版文本樣式,第二級(jí),第三級(jí),第四級(jí),第五級(jí),9/2/2011,#,Hanergy,Confidential,浙江長(zhǎng)興漢能光伏有限公司,#,/n,CVD-1100,設(shè)備工作原理,一、設(shè)備構(gòu)成,二、工作原理,三、日常維護(hù),目,錄,CVD-1100,型等離子化學(xué)氣相沉淀設(shè)備主要有以下幾個(gè)部分組成:,1.,真空系統(tǒng)(泵組部分),,2.,淀積部分,,3.,特氣系統(tǒng),,4.,射頻系統(tǒng)。原理圖如下所示:,一、設(shè)備構(gòu)成,1,、真空系統(tǒng),如上圖所示,真空系統(tǒng)主要由一系列泵和波紋管及閥門(mén)等組成,主要作用是:維持淀積腔室真空狀態(tài),保持腔室壓力穩(wěn)定,及時(shí)抽走反應(yīng)生成的顆粒
2、(硅粉等)。,2,、淀積部分,此部分主要包括沉積爐和工件架,主要作用是淀積所需膜質(zhì),沉積溫度:,200-230,沉積壓力:,0.5-1Torr(50-133Pa),3,、特氣系統(tǒng),主要有管道和電磁閥組成,主要作用是提供成膜所需要的特氣及吹掃腔室的氣體。,反應(yīng)氣體:,Ar,、,CH,4,、,B,2,H,6,、,H,2,、,SiH,4,、,GeH,4,、PH,3,清潔氣體:,NF,3,吹掃氣體:,N,2,質(zhì)量流量計(jì)量程:,TMB,(三甲基硼,C,3,H,9,B,)、,PH,3,、GeH,4,:4000scm,Ar,、,CH,4,、,SiH,4,:,15000scm,H,2,:30000scm,4.
3、,射頻系統(tǒng),主要由,RF,射頻電源柜組成,,18,分立電源控制,18,個(gè)電極,可對(duì)單個(gè)電極進(jìn)行調(diào)節(jié)。,二、工作原理,1.,真空系統(tǒng)工作原理,開(kāi)始,開(kāi)維持泵,開(kāi)機(jī)械泵,開(kāi)預(yù)抽閥,抽真空至,500Pa,開(kāi)羅茨泵,關(guān)旁路閥,抽真空至,5Pa,抽真空至本底真空,開(kāi)高閥,開(kāi)前級(jí)閥,關(guān)羅茨泵,開(kāi)旁路閥,關(guān)預(yù)抽閥,2.,沉積工作原理,在沉積腔室一定的低真空狀態(tài)下,通入反應(yīng)氣體,待氣流穩(wěn)定后,打開(kāi)射頻電源對(duì)反應(yīng)氣體進(jìn)行電離,進(jìn)而生成所需要的膜質(zhì)。反應(yīng)流程如下所示:,導(dǎo)入工件架,接通電極、特氣管道、接地,試起輝(電源設(shè)定,50W,),開(kāi)預(yù)抽閥(,500Pa,),開(kāi)羅茨泵(,5Pa,),開(kāi)前級(jí)閥,高閥(抽本地真空),通入反應(yīng)氣體(,3,分鐘內(nèi)流量穩(wěn)定),起輝(,3,分鐘內(nèi)起輝穩(wěn)定),沉積,吹掃(,Ar,最大流量,,3,次),解除電極連接、特氣連接、接地連接,緩慢拉出工件架,清潔腔室,冷卻,三、日常維護(hù),每日操作人員需對(duì)沉積爐、泵、循環(huán)水、特氣、,RF,電源,加熱等系統(tǒng)點(diǎn)檢。,THE END,THANKS!,