proe陣列教程[共37頁]

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1、陣列詳細教程 主要內(nèi)容： 1、陣列理論 2、創(chuàng)建方向陣列 3、創(chuàng)建軸陣列 4、創(chuàng)建尺寸陣列 5、創(chuàng)建填充陣列 6、創(chuàng)建表陣列 7、創(chuàng)建參照陣列 8、創(chuàng)建曲線陣列 9、創(chuàng)建關(guān)系陣列 10、陣列實例 1.陣列理論： 陣列特征即將單個特征、特征組或陣列特征按照某種規(guī)則排列，生成大量形狀相同或相近的特征。常用于快速、準確地創(chuàng)建數(shù)量較多、排列規(guī)則且形狀相同或相近的一組結(jié)構(gòu)。注意：陣列只能對單個特征進行陣列，要想對多個特征進行陣列，須將多個特征編為一個組進行陣列。 1.1執(zhí)行陣列方法 方法一：右鍵單擊要陣列的特征或特征組（該特征稱之為“陣列導(dǎo)引”），在快捷菜單中

2、選擇陣列 方法二：選中要陣列的特征或特征組，單擊工具欄陣列按鈕： 方法三：選中要陣列的特征或特征組，單擊編輯菜單——陣列 1.2陣列操控板簡介 z1.jpg (10.22 KB) 2008-12-9 19:52 1.3 陣列再生選項——相同、可變、一般 選定用于陣列的特征或特征組稱之為“陣列導(dǎo)引”（原始特征）. 陣列出來的其他副本稱之為陣列成員. 原始特征和陣列成員遵循父子關(guān)系，每個陣列成員都從屬于原始特征，即原始特征（父特征）發(fā)生變化時，陣列成員（子特征）相應(yīng)也發(fā)生變化。在預(yù)覽時，陣列導(dǎo)引的預(yù)覽邊界始終比其他陣列成員粗許多。如下圖。 z3.jpg (10.16 K

3、B) 2008-12-9 19:52 相同：子、父特征的尺寸大小、參照必須完全相同，各特征之間不可相交； 可變：子、父特征的尺寸大小、參照可以不同，但各個特征之間不可相交； 一般：子、父特征的尺寸大小、參照可以不同，各個特征之間可以相交。 如圖所示 z5.jpg (5.74 KB) 2008-12-9 19:52 z6.jpg (15.89 KB) 2008-12-9 19:52 1.4陣列的類型 在proe4.0中，陣列的類型共有七種，分別是尺寸陣列(Dimension)、方向陣列(Direction)、軸心陣列(Axis)、填充陣列(F

4、ill)、表陣列(Table)、參考陣列(Reference)和曲線陣列。首先我們應(yīng)對這些陣列的類型有所了解，才會選擇合適的陣列類型。 方向陣列：用于創(chuàng)建線性陣列或叫矩形陣列，陣列出來的特征呈直線排列，可以創(chuàng)建一個方向上的陣列，也可以創(chuàng)建兩個方向上的陣列。 軸陣列：用于創(chuàng)建環(huán)形陣列，即圓周方向上的陣列，該陣列也有兩個方向：圓周方向和半徑方向。 方向陣列和軸陣列都是proewildfire版新增加的陣列類型，這兩種類型的陣列可以滿足大多數(shù)情況下的需要，并且操作簡單，不易出錯。 尺寸陣列：使用尺寸來驅(qū)動陣列的方向，選擇不同的尺寸類型，可創(chuàng)建不同的陣列，如選擇線性尺寸，類似與方向陣

5、列，選擇角度尺寸，類似于軸陣列。優(yōu)點：功能強大，可使用關(guān)系式創(chuàng)建各種復(fù)雜的陣列。缺點：操作稍有復(fù)雜，初學(xué)者難以上手。 我的意見：如果用方向陣列或軸陣列能滿足要求，建議初學(xué)者盡量使用這兩種陣列，可能一些proe老手喜歡用尺寸陣列。 填充陣列：在指定草繪區(qū)域內(nèi)按照某種排列方式創(chuàng)建陣列。也是WildFire新引入的。通過指定一個草繪的陣列區(qū)域，Proe就會自動用原始特征根據(jù)所給的形狀及參數(shù)來填滿整個區(qū)域. 參照陣列：用于創(chuàng)建依附與已有陣列特征上的陣列。 表陣列：通過選取一定數(shù)量的驅(qū)動尺寸，從而形成一個陣列表，由表格里的尺寸去驅(qū)動陣列里每個成員的尺寸。優(yōu)點：尺寸更加靈活，適用于創(chuàng)建

6、不規(guī)則形狀的陣列；缺點：效率低。 曲線陣列：可將原始特征沿某條曲線進行陣列。該類型為WildFire3.0以后新增加的陣列類型。 所有類型的陣列都可以附加可變化的尺寸。 1.5其他 在創(chuàng)建好的陣列特征上單擊鼠標右鍵，彈出下圖所示快捷菜單 刪除：刪除原始特征和所有陣列實例 刪除陣列：刪除所有陣列實例，保留原始特征 要修改已經(jīng)陣列好的特征，只能在原始特征上修改。 z7.jpg (31.49 KB) 2008-12-9 19:52 2、創(chuàng)建方向陣列 可用于創(chuàng)建線性陣列，方向陣列要求選擇一些參照來確定陣列的方向，如果選取了平面或平曲面，陣列將垂直與參照延伸；如

7、果選取的是線性曲線、邊或軸，陣列將沿著參照延伸，也可以將陣列延伸方向反向180度。也可選擇坐標系作為方向參照 z8.jpg (38.77 KB) 2008-12-9 20:06 2.1創(chuàng)建一個方向的方向陣列 1)打開配套文件： dir_pattern_1st.prt 2)右鍵單擊“拉伸2”，選擇“陣列”，啟動陣列工具 3)在操控板中，將陣列類型改為“方向” 4)選擇長方體左邊實體邊（右圖紅色部分）作為第一方向的方向參照（亦可選擇其他參照） z9.jpg (9.11 KB) 2008-12-9 20:06 5）在操控板中輸入第一個方向的成員數(shù)：4，如陣列方向不

8、是預(yù)期效果可單擊反向按鈕，輸入第一個方向陣列成員的間距：10，確定。 z10.jpg (9.94 KB) 2008-12-9 20:06 最終效果如下圖1 6）右鍵單擊剛剛做出來的陣列特征，選擇編輯，將陣列拉伸數(shù)從4該為8（右圖2），再生，效果如右圖3所示 z11.jpg (19.95 KB) 2008-12-9 20:16 以下演示為該陣列增加一個可變尺寸 7）右鍵單擊剛剛做出來的陣列特征，選擇編輯定義，單擊操控版左上角的尺寸按鈕，單擊方向1下面的列表框，此時該陣列導(dǎo)引特征的尺寸將顯示在屏幕上，選擇該拉伸特征的長度尺寸5，將尺寸添加到下圖所示列表框，增量改

9、為3，中鍵確定，最終結(jié)果如右下圖所示，該陣列成員的拉伸高度在陣列方向上依次增加3。 z12.jpg (50.49 KB) 2008-12-9 20:16 以下演示為該陣列增加兩個可變尺寸 8）右鍵單擊剛剛做出來的陣列特征，選擇編輯定義，單擊操控版左上角的尺寸按鈕，單擊方向1下面的列表框，此時該陣列導(dǎo)引特征的尺寸將顯示在屏幕上，按住CTRL鍵選擇該拉伸特征的定位尺寸30，將尺寸添加到下圖所示列表框，增量改為-5，中鍵確定，最終結(jié)果如右下圖所示，該陣列成員的拉伸高度在陣列方向上依次增加3，同時到right平面的距離依次減小5。 z13.jpg (23.56 KB) 200

10、8-12-9 20:16 2.2創(chuàng)建兩個方向的方向陣列 1)打開配套文件： dir_pattern_2nd.prt 2)按住ctrl鍵依次選擇特征“拉伸3”和“倒圓角1”，右鍵單擊并選擇組，將這兩個特征歸組。 3)右鍵單“組LACAL_GROUP”，擊選擇“陣列”，啟動陣列工具 4)在操控板中，將陣列類型改為“方向” 5)選擇長方體左邊實體邊（右圖紅色部分）作為第一方向的方向參照，（亦可選擇其他參照）在操控板中輸入第一個方向的成員數(shù)：8，單擊反向按鈕，輸入第一個方向陣列成員的間距：10。 6）單擊操控板“方向2參照收集器”，選擇長方體水平邊作為第二個方向參照，在操控板中輸入第一個

11、方向的成員數(shù)：5，輸入第二個方向陣列成員的間距：18，確定。 z14.jpg (39.76 KB) 2008-12-9 20:16 以下演示為該陣列增加兩個可變尺寸 7）右鍵單擊剛剛做出來的陣列特征，選擇編輯定義，單擊操控版左上角的尺寸按鈕，單擊方向1下面的列表框，此時該陣列導(dǎo)引特征的尺寸將顯示在屏幕上，選擇該拉伸特征的長度尺寸5，將該尺寸添加到左下圖所示列表框，增量改為3，接下來單擊方向2下面的列表框，同樣選擇該拉伸特征的長度尺寸5，將尺寸添加到左下圖所示列表框，增量改為-0.5。確定。該陣列成員的拉伸高度在第一個陣列方向上依次增加3，同時，在第二個陣列方向上依次減小0.5

12、。最終結(jié)果如右下圖所示。 z15.jpg (19.98 KB) 2008-12-9 20:23 3、創(chuàng)建軸陣列 使用軸陣列可圍繞指定的軸徑向陣列特征（即環(huán)形陣列），創(chuàng)建軸陣列需要指定以下幾個選項： l指定軸參照：陣列按選定的參照軸按角度延伸?？梢苑聪蚪嵌确较?，使陣列從順時針方向變?yōu)槟鏁r針方向延伸。注意：該軸必須在陣列導(dǎo)引之前創(chuàng)建。 l指定第一個方向的成員數(shù)，即繞軸參照旋轉(zhuǎn)的圓周方向，注意：成員數(shù)包含陣列導(dǎo)引。 l指定角度間距：以度為單位，可以在操控板或圖形窗口中編輯角度間距，或拖動控制滑塊進行編輯。 附加可選設(shè)置 l設(shè)置角度范圍：設(shè)置陳列成員繞軸參照等距分割的角度范圍

13、，即總角度?？蓮南吕斜磉x擇90、180、270或360.也可自己輸入角度范圍。該選項和角度間距只能同時使用一個。 l成員方向：確定陣列成員繞軸參照定向的方式，有“從動旋轉(zhuǎn)”和“定向”兩種方式。 z16.jpg (44.8 KB) 2008-12-9 20:31 3.1創(chuàng)建一個方向的軸陣列 1)打開配套文件： axis_pattern_1st.prt 2)右鍵單擊“組LACAL_GROUP”，選擇“陣列”，啟動陣列工具 3)在操控板中，將陣列類型改為“軸” 4)選取基準軸A_11，在操控板中將陣列成員數(shù)該為“6”，將角度增量改為60，如下圖所示，預(yù)覽效果如右圖。 z1

14、7.jpg (14.72 KB) 2008-12-9 20:31 5)在操控板中單擊“設(shè)置角度范圍”按鈕，將陣列角度范圍該為“90”，如下圖所示，預(yù)覽效果如左下圖。 6）將陣列角度范圍該回到“360”，單擊確定，最終效果如右下圖 z18.jpg (22.94 KB) 2008-12-9 20:31 以下演示如何更改陣列成員方向 7）右鍵單擊剛剛做出來的陣列特征，選擇編輯定義，單擊操控板選項按鈕，將成員方向改為“常數(shù)”，如左下圖所示。單擊確定，最終效果如右下圖2. z19.jpg (14.57 KB) 2008-12-9 20:31 以下演示如何為該陣列附加可變化

15、尺寸 8）返回到步驟6所做陣列結(jié)果 9）右鍵單擊該陣列特征，選擇編輯定義，單擊操控版左上角的尺寸按鈕，單擊方向1下面的列表框，此時該陣列導(dǎo)引特征的尺寸將顯示在屏幕上，選擇該特征的尺寸3.5，將該尺寸添加到左下圖所示列表框，增量改為1，接下來按住CTRL選擇尺寸R3，增量改為0.5，如右圖1所示，確定。最終結(jié)果如右圖2所示。 z20.jpg (19.08 KB) 2008-12-9 20:42 3.1創(chuàng)建兩個方向的軸陣列 1)打開配套文件： axis_pattern_2st.prt 2)右鍵單擊“組LACAL_GROUP”選擇“陣列”，啟動陣列工具 3)在操控板中，將陣列

16、類型改為“軸” 4)選取基準軸A_11，在操控板中將陣列成員數(shù)該為“6”，將角度增量改為60，同時將第二個方向的增量改為“3”，徑向間距改為“15”，如下圖所示。 z21.jpg (12.81 KB) 2008-12-9 20:55 5）單擊操控板左上角尺寸按鈕，為該陣列添加可變化尺寸。單擊方向1下的列表框，在視圖中選取該特征右邊孔的直徑尺寸2，將增量改為-0.2（圖1）。然后單擊方向2下的列表框，在視圖中選取該特征左邊孔的直徑尺寸2，將增量改為1（圖2），然后按住CTRL鍵選擇拉伸高度尺寸5，增量改為5（圖3），如圖4所示。確定。最終結(jié)果如圖5所示。 z22.jpg (

17、55.21 KB) 2008-12-9 20:55 練習(xí)：創(chuàng)建下圖所示陣列 z23.jpg (8.45 KB) 2008-12-9 20:55 1)打開配套文件：axis_pattern.prt.1 2)右鍵單擊特征“孔1”選擇“陣列”，啟動陣列工具，注意該孔在創(chuàng)建的時候使用“徑向”方式定位。 3)在操控板中，將陣列類型改為“軸” 4）選取基準軸A_11，在操控板中將陣列成員數(shù)該為“30”，將角度增量改為20，，如下圖所示。 z24.jpg (10.52 KB) 2008-12-9 20:55 5）)單擊操控板左上角尺寸按鈕，為該陣列添加可變化尺寸。單

18、擊方向1下的列表框，在視圖中選取該特征半徑方向定位尺寸R10（圖1），將增量改為1，接下來按住CTRL鍵選擇該孔直徑尺寸φ2（圖2），將增量改為0.2，如圖3所示。確定。 z25.jpg (24.33 KB) 2008-12-9 20:55 4、創(chuàng)建尺寸陣列 所謂尺寸陣列，就是在陣列的時候需要選擇特征上合適的尺寸作為陣列的方式。通常選擇的是特征的定位尺寸，如選擇線性尺寸，則陣列類似于方向陣列，如選擇角度尺寸，則類似于軸陣列，還可以有其他類型的尺寸，后面會有講述。所以說，尺寸陣列關(guān)鍵是設(shè)置導(dǎo)引特征的標注參照，如拉伸一個圓柱體，要求在拉伸特征中包含角度尺寸，就需要用到合適的參照

19、（或者使用內(nèi)部基準，構(gòu)造線等等）。 尺寸陣列是wildfire版本以前最常用的陣列類型，它的功能非常強大，幾乎可以創(chuàng)建各種類型的陣列。確定是初學(xué)者不太好掌握，操作稍有復(fù)雜。 尺寸陣列操控板介紹： z26.jpg (31.27 KB) 2008-12-9 20:55 4.1使用尺寸陣列創(chuàng)建線性陣列 1)打開配套文件： dim_pattern_dir.prt.1 2)右鍵單擊“組LACAL_GROUP”選擇“陣列”，啟動陣列工具 3)在操控板中，將陣列類型改為“尺寸”，單擊第一個方向陣列的尺寸參照收集器，將拉伸特征的定位尺寸15添加到該收集器，增量改為“20”（也可在尺寸列

20、表中更改）（圖1），第一個方向陣列成員數(shù)改為“4”。然后單擊第二個方向陣列的尺寸參照收集器，將拉伸特征的定位尺寸10添加到該收集器，增量改為“15”（也可在尺寸列表中更改）（圖2），第二個方向陣列成員數(shù)改為“6”。如圖3所示。確定，最終效果如圖4。 z27.jpg (41.71 KB) 2008-12-9 20:55 下面在這兩個方向上繼續(xù)添加可變化的尺寸 4）右鍵單擊剛剛做出來的陣列特征，選擇編輯定義，單擊操控版左上角的尺寸按鈕，單擊方向1下面的列表框，按住ctrl鍵選擇該拉伸特征的長度尺寸5，增量改為-1，將該尺寸添加到左下圖所示列表框，接下來單擊方向2下面的列表框，同樣選擇該

21、拉伸特征的長度尺寸5，將尺寸添加到左下圖所示列表框，增量改為2。確定。該陣列成員的拉伸高度在第一個陣列方向上依次減小1，同時，在第二個陣列方向上依次增大2。最終結(jié)果如右下圖所示。 z28.jpg (22.95 KB) 2008-12-9 20:55 從上面例子可以看出，尺寸陣列每個方向選擇的第一個尺寸很重要，一般選擇特征的定位尺寸，該尺寸的變化確定了陣列的形式，后面選擇的另外兩個尺寸（都是定形尺寸）和以前的方向陣列類似，即附加的可變化尺寸。 4.2使用尺寸陣列創(chuàng)建軸陣列 1)打開配套文件： dim_pattern_axis.prt.1 2)右鍵單擊“組LOCAL_GROUP

22、”選擇“陣列”，啟動陣列工具 在操控板中，將陣列類型改為“尺寸”，單擊第一個方向陣列的尺寸參照收集器，將拉伸特征的定位角度尺寸“45度”添加到該收集器，增量改為“60度”（該角度尺寸決定了在第一個方向上陣列為環(huán)形陣烈）（圖1），第一個方向陣列成員數(shù)改為“6”。然后單擊第二個方向陣列的尺寸參照收集器，將拉伸特征的定位尺寸15添加到該收集器，增量改為“15”（可在尺寸列表中更改）（圖2），第二個方向陣列成員數(shù)改為“6”。如（圖3、圖4）所示。確定，最終效果如圖5。 z29.jpg (38.75 KB) 2008-12-9 21:06 尺寸陣列和方向陣列中的尺寸還是有點區(qū)別的，尺寸陣

23、列中添加的尺寸可以使用關(guān)系式，而方向陣列和軸陣列中附加的可變化尺寸無法使用關(guān)系式。同時，尺寸陣列中的陣列成員和陣列導(dǎo)引特征參照完全一致，而方向陣列或軸陣列則不然。 如下圖所示練習(xí) 1)拉伸長方體300*200*20 2)在長方體上表面草繪樣條曲線，如圖1 z31.jpg (23.21 KB) 2008-12-9 21:06 3)選中長方體上表面，單擊拉伸按鈕，進入草繪器，單擊菜單草繪——參照——將長方體左邊和兩條樣條曲線分別設(shè)為尺寸參照。如圖2所示的幾條虛線。草繪矩形，注意草繪的矩形左邊兩個頂點分別落在上下兩條樣條曲線上，標注矩形到左邊豎直參照的距離。完成拉伸特征。如圖

24、3 z32.jpg (16.54 KB) 2008-12-9 21:06 4)現(xiàn)在陣列剛剛完成的拉伸2特征。如果該特征用方向陣列陣列出來，結(jié)果如圖4，只要沒附加可變化的尺寸，所有陣列成員的大小就和陣列導(dǎo)引完全一模一樣。但是，如果使用尺寸陣列，選擇如圖5所示尺寸作為導(dǎo)引尺寸，同樣的間距，同樣的數(shù)目，結(jié)果卻如圖6所示，其他陣列成員的參照始終保持和陣列導(dǎo)引特征一致，即所有的陣列成員底面矩形的兩個頂點始終位于草繪的兩個樣條曲線上。 z33.jpg (20.15 KB) 2008-12-9 21:06 尺寸陣列的功能非常強大，后面將會給大家介紹如何在尺寸陣列中使用關(guān)系式。

25、5、填充陣列 填充陣列即在規(guī)劃的草繪范圍內(nèi)按照某種規(guī)則創(chuàng)建陣列特征。 首先規(guī)劃陣列范圍，然后指定陣列排列格式并調(diào)整相關(guān)參數(shù)。 b2.jpg (17.38 KB) 2008-12-9 17:35 1）陣列類型 2）選擇填充陣列的填充范圍參照，通常是一個草繪，可以封閉也可以不封閉，可以是內(nèi)部草繪，也可以選擇一個外部草繪 3）設(shè)置填充陣列的填充方法 4）設(shè)置填充陣列成員兩兩之間的間隔 5）設(shè)置陣列成員距離填充邊界的最小值 6）設(shè)置陣列成員繞柵格原點的旋轉(zhuǎn)角度 7）當填充方法為圓形或螺旋形時，徑向距離 填充方法有如下幾種類型： b3.jpg (31.49 KB

26、) 2008-12-9 17:35 5.1創(chuàng)建填充陣列 1)打開配套文件：fill_pattern.prt.1 2)右鍵單擊特征“孔1”選擇“陣列”，啟動陣列工具。 3)操控板中，陣列類型自動選中“填充”，單價操控板中參照按鈕——定義——選擇旋轉(zhuǎn)特征底面為草繪平面——進入草繪（圖1） 4)單擊工具欄“通過邊創(chuàng)建圖元”，選擇“環(huán)”方式（圖2），創(chuàng)建圖3所示圓。確定，返回陣列 5)填充類型該為圓，兩兩間隔20，徑向距離20，圖4。確定。最終效果圖5。 b4.jpg (23.75 KB) 2008-12-9 17:35 b5.jpg (21.36 KB) 200

27、8-12-9 17:35 以下內(nèi)容需要回復(fù)才能看到 6、創(chuàng)建表陣列 表陣列是一種相對比較自由的陣列方式，常用于創(chuàng)建不太規(guī)則布置的特征陣列。 創(chuàng)建表陣列的步驟： 1）收集特征的相關(guān)尺寸此參數(shù)創(chuàng)建陣列表 2）在編輯器中輸入或更改每個陣列成員的相關(guān)尺寸參數(shù) 表陣列在創(chuàng)建是關(guān)鍵是如何確定每個陣列成員的尺寸參數(shù)。 表陣列操控板簡介（圖1） 19.jpg (43.61 KB) 2008-12-7 23:52 表陣列表編輯器簡介（圖2） 20.jpg (41.21 KB) 2008-12-7 23:52 以下用實例說明具體如何創(chuàng)建表陣列 1) 打開配套

28、文件table_pattern.prt.1 2) 右鍵單擊特征“組LOCAL_GROUP”選擇“陣列”，啟動陣列工具。 3) 在操控板中，將陣列類型改為“表”， 單擊陣列表尺寸收集器，然后選擇該特征組的尺寸10、15和5 （圖 1），將這三個尺寸添加到表尺寸中（圖2）。所有陣列成員都將依據(jù)這三個尺寸來發(fā)生變化。 4) 單擊操控板中的編輯按鈕，打開表編輯器，輸入圖5所示的陣列實例索引和尺寸。完成后退出。確定，最終效果如圖6 22.jpg (55.22 KB) 2008-12-7 23:52 7、創(chuàng)建參照陣列 參照陣列可以創(chuàng)建依附于其他已有陣列特征基礎(chǔ)上的陣列。

29、 如圖1所示，已經(jīng)創(chuàng)建好了一個方向陣列，如果在原始特征上繼續(xù)添加一個新特征，倒角特征，并希望在各個陣列實例上也添加相同的特征，就可以使用參照陣列。 1.jpg (36.55 KB) 2008-12-8 16:49 注意：創(chuàng)建參照陣列時，只有在原始特征上創(chuàng)建新特征后才可以使用參照陣列的方法在各個子特征上創(chuàng)建同類特征，而在各實例特征上創(chuàng)建新特征后并不能使用參照陣列。 參照陣列的類型： a)特征：參照陣列參照現(xiàn)有的特征陣列 b)組：參照陣列參照某個陣列的組或現(xiàn)有的陣列。 c)兩者：參照陣列同時參照現(xiàn)有的特征陣列和組陣列。 如下圖所示，該陣列其實是一個嵌套陣列，即先做拉伸

30、特征的軸陣列，然后以軸陣列為陣列導(dǎo)引（相當于一個局部組）再進行方向陣列。現(xiàn)在在原始特征（拉伸特征）上創(chuàng)建圓角特征，對圓角特征再做參照陣列，即有如下三種類型 2.jpg (54.67 KB) 2008-12-8 16:49 練習(xí)：創(chuàng)建參照陣列 1)打開配套文件ref_pattern.prt.1 2)右鍵單擊“倒圓角2”，在快捷菜單中選擇“陣列” 3)操控板中陣列類型自動選擇“參照”，參照類型為“特征”，觀察預(yù)覽陣列結(jié)果 4)單擊操控板參照類型后列表框，選擇“組”，觀察預(yù)覽陣列結(jié)果 5)單擊操控板參照類型后列表框，選擇“兩者”，觀察預(yù)覽陣列結(jié)果，確定。 3.jpg

31、 (22.45 KB) 2008-12-8 16:49 8、創(chuàng)建曲線陣列 曲線陣列是proe3.0以后新增加的陣列類型，可以創(chuàng)建沿著指定曲線均勻分布的陣列。 分布可分兩種類型：定距和定數(shù) 11.jpg (40.04 KB) 2008-12-9 10:34 雖然用尺寸陣列也可以做曲線陣列，但相對來說，步驟稍微復(fù)雜一點，需要一些參照來確定陣列導(dǎo)引在曲線上的位置。這些，用曲線陣列都可以很好的解決了。 注意：要想讓陣列特征和曲線位置完全重合，應(yīng)讓特征和曲線的端點重合在一起。 以下用實例說明如何創(chuàng)建參照陣列 1)打開配套文件curver_pattern.prt.1 2)

32、右鍵單擊“拉伸3”，在快捷菜單中選擇“陣列” 3)在操控板中將陣列類型改為“曲線”，單擊“參照收集器”，在模型樹中選擇“草繪1”，將草繪1中的樣條曲線作為該陣列的參照曲線（亦可單擊操控板“參照”——“定義”，自己重新定義一個內(nèi)部草繪） 4)在操控板中將成員間距改為10，確定，結(jié)果如下圖1。 5)右鍵單擊剛剛做好的陣列特征，在快捷菜單中選擇“編輯定義”，將陣列成員數(shù)該為“20”，確定，結(jié)果如下圖2。 6)右鍵單擊剛剛做好的陣列特征，在快捷菜單中選擇“編輯定義”，在操控板單擊“選項”，將草繪“平面上成員的方向”改為常數(shù)，確定，結(jié)果如下圖3。 右鍵單擊剛剛做好的陣列特征，在快捷菜單中選擇“

33、編輯定義”，在操控板單擊“選項”，勾選跟隨平面，在視圖中選擇曲面“拉伸4”，確定，結(jié)果如下圖4。 22.jpg (30.84 KB) 2008-12-9 10:34 9、創(chuàng)建關(guān)系陣列 關(guān)系陣列其實是屬于尺寸陣列，只有在陣列類型設(shè)置為尺寸時，才可以使用關(guān)系式來定義尺寸的變化。 之所以把關(guān)系陣列單獨列出來講，一 是因為關(guān)系陣列問的人比較多，大家可能都比較感興趣，二是因為關(guān)系陣列稍微有點復(fù)雜，需要一定的數(shù)學(xué)基礎(chǔ)和編程基礎(chǔ)。 關(guān)系陣列即用關(guān)系式來確定陣列的變化形式，屬于尺寸陣列 尺寸陣列本身功能就非常強大，形式很靈活，并且陣列導(dǎo)引和陣列成員的參照完全一樣，這點和其他陣列類

34、型稍有不同（參照前面講的尺寸陣列），所以，就要求陣列導(dǎo)引在創(chuàng)建的時候一定要考慮全面，選擇合適的尺寸和參照。否則，非常容易出錯。 在proe中尺寸有兩種表示形式，一種是直接用數(shù)值表示，另外一種用“字母+數(shù)字”的形式來表示，相當于該尺寸的代號，這樣，就可以使用關(guān)系式了，否則，關(guān)系式中要用到的尺寸就會始終為常量了。如下圖所示，左邊圖形中孔的尺寸是用數(shù)值顯示的，右邊圖形中孔的尺寸使用“字母+數(shù)字”的形式顯示的。要切換尺寸的顯示，可單擊菜單“信息”——“切換尺寸”即可。或在關(guān)系窗口中單擊菜單“實用工具”——“切換尺寸”亦可。 z34.jpg (24.33 KB) 2008-12-9 21:19

35、 下面，由淺入深，來講述怎樣創(chuàng)建關(guān)系陣列。 a)以top平面為草繪平面，做長方體，200*80*10，最好讓該長方體關(guān)于right平面和front平面都對稱。然后在該長方體上表面打孔，使用線性孔放置類型，尺寸如上圖所示 b)接下來將該孔沿著尺寸15的方向在板上陣列10個，要求無論板的尺寸以后如何變化，陣列出來的10個孔在板上都要均勻分布，這就要用到最簡單的關(guān)系陣列了。 (1)首先分析一下該關(guān)系如何來寫。如下圖所示，板的長度尺寸是“d2”，孔距離板左邊尺寸為“d462”，要想讓10個孔在 板上均勻分布，則兩兩孔之間的間距為：（d2－2d462）/9。 z35.jpg (1

36、7.47 KB) 2008-12-9 21:37 (2)將上述關(guān)系式添加到陣列尺寸中 l右鍵單擊模型樹上的“孔1”，在快捷菜單中選擇“陣列” l確定陣列類型為“尺寸”（1），單擊孔定位尺寸“15”（2），將該尺寸作為陣列的導(dǎo)引尺寸，在操控板中將陣列數(shù)目改為“10”（3），然后單擊操控板左上角“尺寸”按鈕（4），選中方向1下列表框中的尺寸“d462”（5），勾選“按關(guān)系定義增量”（6），單擊“編輯”按鈕（7），就可進入陣列關(guān)系編輯器窗口。 z36.jpg (28.6 KB) 2008-12-9 21:37 l在陣列關(guān)系中，以下幾個參數(shù)必須要有所了解 m

37、emb_v —— 指定方向中的關(guān)系驅(qū)動最終尺寸，也就是陣列成員在陣列方向上變化后的實際尺寸。如下圖所示，第4個孔的陣列尺寸如用memb_v表示，則是孔到板最左邊的距離。 memb_i —— 指定方向中的關(guān)系驅(qū)動增量，即陣列實例兩兩之間的間隔。memb_v和memb_i都可以表示陣列成員的尺寸變化，但在同一個關(guān)系式中不可同時使用。 lead_v ——leader 值(選取尺寸確定方向)，陣列導(dǎo)引的尺寸值，在下圖中為15，始終不會發(fā)生變化。 idx1 ——在第一方向上的陣列實例索引，原始特征為0，依次為1、2 。。。。 idx2——在第二方向的陣列實例索引，原始特征為0，依

38、次為1、2 。。。。 z37.jpg (20.37 KB) 2008-12-9 21:37 l在陣列關(guān)系式編輯器中輸入公式memb_i=(d2-2*d462)/9，對于尺寸d2和d462，也可以在模型視圖中直接選擇，該尺寸將會自動添加到關(guān)系式編輯器。注意，在輸入時所有符號必須用英文狀態(tài)下的符號，否則無效（和C語言一樣）。如下圖所示。 z38.jpg (15.04 KB) 2008-12-9 21:37 (3)最終結(jié)果如下圖所示。 z39.jpg (9.39 KB) 2008-12-9 21:37 (4)右鍵單擊“拉伸1”特征，選擇編輯定義，將板的尺

39、寸改為100，確定，結(jié)果如下，可見，無論板的尺寸如何發(fā)生變化，陣列出來的10個孔在板上都是均勻分布的。 z40.jpg (8.23 KB) 2008-12-9 21:49 c)返回到第（3）步，接下來演示如何讓上述陣列的10個孔在豎直方向上按正弦規(guī)律變化，振幅為30。 l右鍵單價剛剛做好的陣列特征——編輯定義，按住CTRL鍵將孔豎直方向定位尺寸添加到方向1列表框中（1），選中該尺寸（2），勾選“按關(guān)系定義增量”（3），單擊“編輯”按鈕（4），在關(guān)系編輯器中輸入公式：memb_v=lead_v+30*sin(360/9*idx1)（5）如下圖所示。 z41.jpg (

40、31.09 KB) 2008-12-9 21:49 l確定，最終效果如下圖 z42.jpg (13.64 KB) 2008-12-9 21:49 d)若要更改陣列的數(shù)目，可在陣列特征上單擊右鍵——編輯，如尺寸按數(shù)值顯示，可再單擊菜單信息——更改尺寸，記下該陣列成員數(shù)的尺寸代號，在本例中為P535。如下圖所示。然后編輯陣列特征，將上述兩個關(guān)系式中陣列數(shù)目9改為尺寸代號“p353”。確定。 l編輯陣列，將數(shù)目給為20，最終效果如下圖 z43.jpg (18.21 KB) 2008-12-9 21:49 l同理，可將孔直徑在陣列方向設(shè)為按余弦規(guī)律變化，略。

41、 e)在關(guān)系式中，還可以使用一些簡單的編程語句和函數(shù)，如if語句，string_length()函數(shù)等等，接下來演示一個簡單的if語句關(guān)系式 l編輯陣列，將該陣列豎直方向尺寸的關(guān)系改為下圖所示 z44.jpg (34.61 KB) 2008-12-9 21:49 “Offset”為用戶定義變量，“^”表示的是指數(shù)符號 該關(guān)系式的含義為：如果陣列成員的索引為奇數(shù)，則豎直方向尺寸為“l(fā)ead_v+20”，如果為偶數(shù)，則保持不變，始終為“l(fā)ead_v”。最終效果如下圖 z45.jpg (11.21 KB) 2008-12-9 21:49 f)在關(guān)系式中，也可以使用

42、圖形特征（即GRAPH）來定義關(guān)系式，即用控制圖標來控制陣列的走勢。GRAPH格式如下： Sd#=evalgraph（圖形特征的名稱，X的范圍） 舉例說明。 l在陣列導(dǎo)引之前創(chuàng)建一個名為GRA1的圖形特征，如下圖所示。在該圖形當中有11個點（實際上只用到了10個點）每個點的X坐標依次為0、1、2……，陣列時用這些點對應(yīng)的Y坐標控制陣列尺寸變化 z46.jpg (18.64 KB) 2008-12-9 21:49 l右鍵單擊陣列特征，編輯定義，將該陣列豎直方向尺寸的關(guān)系改為下圖所示。該關(guān)系式含義：如果陣列索引小于10，則memb_V為導(dǎo)引尺寸加上圖形中相應(yīng)Y坐標的數(shù)值的

43、6倍。大于10后，則memb_V為導(dǎo)引尺寸減去圖形中相應(yīng)Y坐標的數(shù)值的6倍。有點亂，呵呵 z47.jpg (40.25 KB) 2008-12-9 21:49 l確定，預(yù)覽效果如下 z48.jpg (11.75 KB) 2008-12-9 21:49 10、陣列實例 作出下圖所示陣列，步驟略 z49.jpg (8.84 KB) 2008-12-9 21:58 z50.jpg (10.15 KB) 2008-12-9 21:58 z51.jpg (9.76 KB) 2008-12-9 21:58 z52.jpg (21.78 KB) 2008-12-9 21:58 z53.jpg (18.83 KB) 2008-12-9 21:58 z54.jpg (16.21 KB) 2008-12-9 21:58 z55.jpg (16.57 KB) 2008-12-9 21:58